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集成电路行业废硫酸综合利用技术要求及试验方法
Technical requirements and test method for comprehensive utilization of waste sulfuric acid in integrated circuit manufacturing industry
发布日期:
2021-05-28
实施日期:
2021-06-28
项 目 指 标
硫酸(H2SO4)质量分数/% ≥50
过氧化氢质量分数/% ≤0.1
灰分质量分数/% ≤0.05
铜(Cu)质量指标/% ≤0.0005
铁(Fe)质量分数/% ≤0.01
砷(As)质量分数/% ≤0.0005
铅(Pb)质量分数/% ≤0.01
汞(Hg)质量分数/% ≤0.005
镉(Cd)质量分数/% ≤0.0005
铬(Cr)质量分数/% ≤0.0025
镍(Ni)质量分数/% ≤0.0025
总有机碳(TOC)/(mg/L) ≤500
透明度/mm ≥30